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ICP-MS法快速测定多晶硅表面八种金属杂质含量
发表时间:[2018-08-01]  作者:徐远志,张云晖  编辑录入:小铬  点击数:487

内容简介

摘要:使用硝酸、氢氟酸、过氧化氢和水的混合溶液浸取多晶硅表面金属杂质,无需赶尽氢氟酸,采用配备耐氢氟酸惰性进样系统的ICP-MS直接测定多晶硅澳门银河娱乐官网网站中钠、铝、钾、铁、铬、镍、铜和锌8种表面金属杂质含量,结果表明该方法具有简便、快速、准确等特点,加标回收率为84.0%~110.6%,相对标准偏差(RSD)为3.79%~11.96%,检出限为0.003ng/g~0.018ng/g。关键词:表面金属;ICP-MS;惰性进样系统下载高清全文——ICP_MS法快速测定多晶硅表面八种金属杂质含量_.pdf

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